Materiale
Schlüter®-RENO-TK è disponibile nelle versioni: ottone (-MTK), alluminio (-ATK), alluminio anodizzato (-AETK).
Caratteristiche del materiale e campi di applicazione
Il tipo di materiale deve essere valutato di volta in volta in funzione dell’esposizione ad agenti chimici, meccanici o delle altre sollecitazioni previste sulla pavimentazione.
L’ottone è resistente alla maggior parte degli agenti chimici utilizzati nell’ambito delle pavimentazioni ceramiche. La parte metallica esposta è soggetta a fenomeni di ossidazione che provocano una patina sull’ottone. In presenza di elevati tassi di umidità o agenti molto aggressivi la superficie può essere soggetta ad ossidazione elevata ed alla presenza di macchie.
L’utilizzo del profilo in alluminio, Schlüter®-RENO-ATK, deve essere di volta in volta valutato in funzione delle aggressioni chimiche previste, in quanto l’alluminio teme le sostanze alcaline. I prodotti cementizi infatti, in presenza di umidità, conducono alla formazione di sostanze alcaline che in funzione della concentrazione e della durata di esposizione possono corrodere (formazione di idrossido di alluminio) il profilo. Pertanto qualsiasi residuo di prodotto cementizio e di sigillante, deve essere rimosso immediatamente; inoltre il profilo deve essere posato in modo tale che non rimangano cavità all’interno delle quali si possa accumulare acqua con conseguente formazione di sostanze alcaline e successiva corrosione dello stesso.
Il profilo in alluminio anodizzato, Schlüter®-RENO-AETK, è caratterizzato dalla presenza di una superficie anodizzata che nelle condizioni di uso normale non subisce modificazioni; è quindi opportuno evitare di graffiare la superficie con oggetti o paste abrasive. Inoltre i collanti, la malta ed i prodotti sigillanti, possono macchiare, se rimangono a contatto con la superficie anodizzata, la stessa; è quindi necessario rimuovere il più velocemente possibile eventuali residui. Per quanto riguarda le caratteristiche del profilo, vale quanto descritto per lo Schlüter®- RENO-ATK.